雖然EDI膜塊的進(jìn)水條件在很大的程度上減少了膜塊內(nèi)部阻塞的機(jī)會(huì)，但是隨著設(shè)備運(yùn)行時(shí)間的延展，EDI膜塊內(nèi)部水道還是有可能產(chǎn)生阻塞，這主要是EDI進(jìn)水中含有較多的溶質(zhì)，在濃水室中形成鹽的沉淀。如果進(jìn)水中含有大量的鈣鎂離子（硬度超過(guò)0.8ppm）、CO2和較高的pH儀表值，將會(huì)加快沉淀的速度。遇到這種情況，我們可以通過(guò)化學(xué)清洗的方法對(duì)EDI膜塊進(jìn)行清洗，使之恢復(fù)到原來(lái)的技術(shù)特性。

通常判斷EDI膜塊被污染堵塞可以從以下幾個(gè)方面進(jìn)行評(píng)估判定：

1、在進(jìn)水溫度、流量不變的情況下，進(jìn)水側(cè)與產(chǎn)水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高45%。

2、在進(jìn)水溫度、流量不變的情況下，濃水進(jìn)水側(cè)與濃水排水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高45%。

3、在進(jìn)水溫度、流量及電導(dǎo)率不變的情況下，產(chǎn)水水質(zhì)（電阻率）明顯下降。

4、在進(jìn)水溫度、流量不變的情況下，濃水排水流量下降35%。

  膜塊堵塞的原因主要有下面幾種形式：顆粒/膠體污堵；無(wú)機(jī)物污堵；有機(jī)物污堵；微生物污堵。（EDI清洗注意：在清洗或消毒之前請(qǐng)先選擇合適的化學(xué)藥劑并熟悉安全操作規(guī)程，切不可在組件電源沒(méi)有切斷的狀態(tài)下進(jìn)行化學(xué)清洗。）詳細(xì)如下：

1、顆粒/膠體污堵

  進(jìn)水顆粒度≥5μm時(shí)會(huì)造成進(jìn)水流道堵塞，引起膜塊內(nèi)部水流分布不均勻，從而導(dǎo)致 膜塊整體性能降低。如果EDI膜塊的進(jìn)水不是直接由 RO產(chǎn)水端進(jìn)入EDI膜塊，而是通過(guò)RO產(chǎn)水箱經(jīng)過(guò)增壓泵供水，建議在進(jìn)入EDI膜塊前端增設(shè)保安過(guò)濾器（≤0.2μm）。在組裝EDI設(shè)備時(shí)，所有的連接管道系統(tǒng)應(yīng)沖洗干凈以預(yù)防管道內(nèi)的顆粒雜質(zhì)進(jìn)入膜塊。

2、無(wú)機(jī)物污堵

  如果EDI進(jìn)水含有較多的溶質(zhì)且超出設(shè)計(jì)值或者回收率超過(guò)設(shè)計(jì)值時(shí),將導(dǎo)致濃水室和陰極室的結(jié)垢，生成鹽類物質(zhì)析出沉淀，通常結(jié)垢的類型為鈣、鎂離子生成的碳酸鹽。即便這類物質(zhì)的濃度很小，接觸時(shí)間也很短，但隨著運(yùn)行時(shí)間的累加，仍有發(fā)生結(jié)垢的可能，這種硬度結(jié)垢很容易通過(guò)酸洗去除。按照方案1中的方法，使用低PH溶液在系統(tǒng)內(nèi)部循環(huán)清洗，可以去除濃水室和陰極室的結(jié)垢。

  當(dāng)進(jìn)水中的鐵和錳含量高，或者高TDS的水以外進(jìn)入到EDI膜塊時(shí)，也會(huì)使淡水室的離子交換樹(shù)脂或者濃水室形成無(wú)機(jī)物污堵。3、有機(jī)物污堵

  當(dāng)進(jìn)水有機(jī)污染物TOC或TEA含量超過(guò)設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，淡水室的離子交換樹(shù)脂和離子膜會(huì)發(fā)生有機(jī)污堵。